凹版电镀工艺 | 电解维护知识的最全面解释，太棒了！
发布时间:
2016-07-23
在电镀工艺的维护中，电解维护是常用的方法之一。掌握电解维护的全面知识对提高镀液的稳定性和产品质量具有重要意义。在这里，我想与读者分享一些关于凹版电镀中电解的知识。
1. 镍镀槽的电解维护：
1.1 镍槽的电解是低电流电解，电流密度在0.05到0.1之间，槽电压在0.3到1V之间。其目的是去除镍镀液中在高电位下易沉淀的金属离子。在凹版镍电镀中，最常见的杂质是铜离子，因为铜离子的沉淀过电位低于镍。小的阴极极化可以导致铜离子的沉积，从而达到去除的目的。Paituo公司的专利产品 ----镍电镀外部电解设备,可以在不影响生产的情况下对镍电镀液进行低电流电解，从而达到净化镀液的目的。我推荐给大家。
1.2 镍槽的高电流电解可以去除铁离子，但并不意味着铁离子可以在阴极还原。相反，亚铁离子通过阳极氧化被氧化为铁离子，从而在较低pH条件下沉淀并过滤掉。这种方法类似于向槽中添加过氧化氢。考虑到能耗和材料消耗，镍槽的高电流电解很少使用且没有必要。
2. 铜镀槽的电解维护：
2.1 铜槽中的电解很少使用。高电流电解仅消耗添加剂，但容易导致能量和材料的浪费。通常，这一功能可以通过氧化剂和碳粉来实现。
2.2 铜槽中的低电流电解，电流密度为1-3A/dm2，可以消耗从添加剂中分解出的硫化物，形成亚铜硫化物（低电流下黑化的常见现象），可以缓解铜电镀中附着力差的问题！然而，附着力问题通常通过补充添加剂#1来抑制，这种方法快速有效。因此，铜槽中的低电流电解仅适用于无法通过补充添加剂#1进行调整的附着力问题（例如，当补充添加剂#1容易导致铜斑，或镀层本身的硬度相对较高时）。
3. 铬镀槽的电解：
铬槽电解有三种类型：增加三价铬、还原三价铬和还原氯离子。
3.1 增加三价铬使用大阴极和小阳极，在常温下，电流密度为20-30（低电流密度，低效率，产生更多的三价铬）。这种增加三价铬的方法适合开启新槽。在增加三价铬的同时，也可以快速提高镀液的温度。通常，在镀槽中补充酒精以增加三价铬，计量准确且易于计算（1克酒精可以增加1.8克三价铬）。
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