欢迎访问:东莞市脉拓表面处理科技有限公司!

服务热线:0769-83330659
解决硫酸铜升高的理想方案
- 分类:电镀技术
- 作者:
- 来源:
- 发布时间:2013-10-26 12:30
- 访问量:
解决硫酸铜升高的理想方案
- 分类:电镀技术
- 作者:
- 来源:
- 发布时间:2013-10-26 12:30
- 访问量:
详情
引言 ---现状
- 硫酸的消耗量大----从实际生产当中分析,铜槽镀液成分被版辊带出量或抽风损失量,都比较少,甚至可以忽略计算,但各厂每个月消耗在铜槽补充上的硫酸要200-400kg;
- 铜球的利用率低----目前各制版厂都存在酸铜镀液硫酸铜含量升高的普遍问题,一般每3-4个月就要排液稀释一次,以至于大多数厂家铜球的利用率低于85%;
- 电镀用电量不能有效控制----因出于限制硫酸铜升高的目的,多数厂家将硫酸含量控制在50-65g/L范围内,同时铜球的补充量也保持在下限,生产中槽电压就会比较高,大多数厂家生产电压在7-8V。
以上现象会造成的铜球的利用率低、硫酸的过量消耗、能耗的浪费;
上一个:
霍尔槽实验的作用和必要性
下一个:
镍液去除铜离子杂质解决方案
上一个:
霍尔槽实验的作用和必要性
下一个:
镍液去除铜离子杂质解决方案
相关技术
在线留言
客户留言
描述: